专利名称：真空系统和用于在基板上沉积多个材料的方法专利类型：发明专利发明人：奥利弗·海姆尔申请号：CN201780011610.3申请日：20170428公开号：CN109154063A公开日：20190104
摘要：描述一种用于在基板上沉积多个材料的真空系统(100)。真空系统包括多个沉积模块(110)，多个沉积模块(110)沿着主传送方向(P)布置并且包括沉积源(105)，沉积源(105)在主传送方向(P)中是可移动的；和传送系统，具有多个轨道(120)，多个轨道于主传送方向(P)中延伸通过多个沉积模块并且包括用于掩模传送的第一掩模轨道(121)、用于基板传送的第一基板轨道(122)和用于返回空的载体的返回轨道(123)。
申请人：应用材料公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京律诚同业知识产权代理有限公司
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