专利名称：将图案应用至衬底的方法、器件制造方法以及用于
这些方法的光刻设备
专利类型：发明专利
发明人：S·C·T·范德山登,R·J·F·范哈恩,H·J·G·西蒙斯,R·D·M·
埃德阿特,魏秀虹,M·库比斯,I·里尤利纳
申请号：CN201210359532.5申请日：20120924公开号：CN103034067A公开日：20130410
摘要：本发明公开了将图案应用至衬底的方法、器件制造方法以及用于这些方法的光刻设备。衬底被装载到光刻设备的衬底支撑结构上，之后设备测量衬底对准标记的位置。这些测量限定第一校正信息，由此允许设备在衬底上的一个或更多个期望的位置应用图案。使用附加的第二校正信息增强图案定位精确度，尤其是校正名义对准格子的较高阶变形。第二校正信息可以基于在应用先前的图案至相同衬底时所执行的对准标记的位置测量。第二校正信息可以替代地或附加地基于在当前衬底之前已经被图案化的相似衬底上执行的测量。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰维德霍温
国籍：NL
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：张启程
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