专利名称：大面积紫外光刻(曝光)方法及其装置专利类型：发明专利发明人：仲跻功
申请号：CN90107038.6申请日：19900815公开号：CN1059039A公开日：19920226
摘要：本发明涉及一种接触/接近式大面积紫外均匀 辐照光刻(曝光)的方法及其装置，采用了可将辐照面 内辐照不均匀度与曝光过程中产生的曝光不均匀度 互相补偿的偶数光通道光学积分器、复合式高次非球 面的聚光镜和可移动式曝光方式，使得在增大有效辐 照面积的同时提高了曝光均匀度，为液晶显示器，特 别是液晶电视技术中的关键器件有源矩阵液晶显示 器的研制提供了有效手段，它还适用于大规模集成电 路和精密印刷电路板的制作及太阳紫外辐照模拟实 验等方面。
申请人：中国科学院长春光学精密机械研究所
地址：130022 吉林省长春市斯大林大街112号
国籍：CN
代理机构：中国科学院长春专利事务所
代理人：顾业华
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