专利名称：极紫外光的光刻光罩专利类型：发明专利
发明人：Z·J·齐,C·A·特利,J·H·兰金申请号：CN201710285380.1申请日：20170427公开号：CN107367904A公开日：20171121
摘要：本揭示内容涉及极紫外光的光刻光罩，其有关于半导体结构，且更特别的是，有关于极紫外光的光刻光罩的修饰表面及制造方法。该结构包括具有图案化设计的反射表面，以及在该图案化设计的边缘的黑色边界区。该黑色边界区包括修饰表面形态以引导光线远离而不抵达后续反射体。
申请人：格罗方德半导体公司
地址：英属开曼群岛大开曼岛
国籍：KY
代理机构：北京戈程知识产权代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容