专利名称：基板处理装置以及基板处理方法专利类型：发明专利
发明人：吉富大地,井上一树,岩见优树,石井弘晃申请号：CN201610168994.7申请日：20160323公开号：CN106024581A公开日：20161012
摘要：本发明提供抑制处理液附着在基板的非处理面上的基板处理装置以及方法。装置具有：保持构件，从下方将基板保持为水平；相向构件，具有与基板的上表面隔开间隙相向的主体部和从主体部的周缘部中至少一部分向保持构件的侧方延伸的延伸设置部。在延伸设置部的顶端侧部分和保持构件的侧面部分中一个部分设置突出部，在另一个部分上设置限制结构，限制构件在以旋转轴为中心的周向上从突出部的前后与其相向，来限制突出部在周向上的相对移动。保持构件和相向构件在周向上的相对移动受到限制，该装置具有使保持构件和相向构件中的至少一方以旋转轴为中心旋转的旋转机构和向基板的处理面喷出处理液的喷嘴，突出部和限制结构比保持构件的上表面靠下方。
申请人：株式会社思可林集团
地址：日本国京都府京都市
国籍：JP
代理机构：隆天知识产权代理有限公司
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