专利名称：高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置专利类型：实用新型专利
发明人：梁小朝,连杰,姚浩川,黄德新申请号：CN201921371751.9申请日：20190822公开号：CN210787187U公开日：20200619
摘要：本实用新型公开了高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置，包括装置主体、支撑腿、电源线和单片机，装置主体的后面一侧底部固定连接有电源线，装置主体的一侧中间部位固定连接有控制器，装置主体的内部底端一侧固定连接有单片机，装置主体的顶部一端固定连接有去离子水储罐，装置主体的顶部一侧固定连接有磷酸储罐，装置主体的底端固定连接有支撑腿，支撑腿的底端嵌入连接有防滑纹，在制备蚀刻液的时候，需要将装置固定的特定的位置，通过支撑腿将装置主体进行支撑固定，在支撑腿与固定位置的接触面接触时，防滑纹能增大支撑腿的底端与固定接触面的摩擦力，使装置主体能有足够的抓地力固定在固定位置上，有效的提高了装置固定的防滑性。
申请人：合肥中聚合臣电子材料有限公司
地址：231600 安徽省合肥市肥东县合肥循环经济示范园长松路东
国籍：CN
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